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我司榮獲第二十一屆中國專利優秀獎

7月15日,由國家知識產權局和世界知識產權組織共同評選的第二十一屆中國專利獎正式發布授獎決定,我司發明專利“一種步進光刻設備及光刻曝光方法(ZL201110241791.3)”榮獲第二十一屆中國專利優秀獎,這也是我司獲得的第九項中國專利優秀獎。

 


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